삼성전자, '30년까지 시스템 반도체에 171조 원 투자
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삼성전자, '30년까지 시스템 반도체에 171조 원 투자
  • 정근호 기자
  • 승인 2021.05.14 17:28
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첨단 파운드리 공정 연구개발·시설 투자 가속화
'22년 하반기 평택 3라인 완공...긍정 효과 기대
출처: 삼성전자
출처: 삼성전자

[애틀러스리뷰] 삼성전자는 지난 13일 열린 K-반도체 벨트 전략 보고대회를 통해 향후 2030년까지 시스템반도체 분야에 대한 추가 투자계획을 발표했다.

삼성전자는 시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 시스템반도체 비전 2030 발표 당시 수립한 133조 원의 투자계획에 38조 원을 추가해 2030년까지 총 171조 원을 투자하고 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 박차를 가한다.

2019년 4월 정부는 삼성전자 화성사업장에서 ‘시스템반도체 비전 선포식’을 열고 시스템반도체 육성을 통해 종합 반도체 강국으로 거듭나겠다는 계획을 밝힌 바 있다. 

2022년 하반기 완공될 평택 3라인의 클린룸 규모는 축구장 25개 크기로, 현존하는 최첨단의 기술이 적용된 팹이다. EUV 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품을 양산하며, 모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리된다.

평택캠퍼스는 세계 최대 규모 반도체 클러스터로서 최첨단 제품을 양산하는 전초기지이자 글로벌 반도체 공급기지로서 주도적 역할이 강화될 전망이다.

삼성전자는 앞으로 ▲차세대 D램에 EUV 기술 적용 ▲메모리와 시스템반도체를 융합한 'HBM-PIM' ▲D미래 메모리 솔루션 기술 개발에도 적극 나설 계획이다.

삼성전자는 시스템반도체 생태계 육성을 위해 팹리스 대상 IP 호혜 제공, 시제품 생산 지원, 협력사 기술교육 등 다양한 상생 활동을 더욱 확대하고 소재∙부품∙장비 업체는 물론 우수 인재 육성을 위한 학계와의 협력을 더 강화해 나갈 예정이다.

삼성전자 김기남 부회장은 "지금 대한민국 반도체 산업이 대격변을 겪는 지금이야말로 장기적인 비전과 투자의 밑그림을 그려야 할 때"라며 "우리가 직면한 도전이 크지만, 현재를 넘어 미래를 향해 담대히 나아갈 것"이라고 말했다.

 


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